I`m from

Маска для обличчя з полином I'M FROM Mugwort Mask

Regular price
₴0.00
Regular price
Sale price
₴0.00
Tax included.

Екстракт полину має заспокійливі властивості. На основі цього природного інгредієнта розроблена I'm From Mugwort Mask - маска, завдяки якій забезпечується дбайливий догляд за жирною і проблемною шкірою. Б'юті-продукт також багатий екстрактами солодки, центелли азіатської, розмарину, даурської троянди. Такий склад допомагає не тільки очистити шкірний покрив, а й загоїти акне, усунути почервоніння і подразнення, вирівняти тон шкіри і зміцнити її місцевий імунітет.

- Спеціальна формула для жирної і проблемної шкіри;
- Забезпечує дбайливе глибоке очищення;
- Усуває запальні процеси;
- Миттєво заспокоює подразнену шкіру;
- Знімає почервоніння;
- Підходить для комплексного догляду за шкірою, схильною до жирності і появи акне;
- Містить високу концентрацію екстракту полину;
- Зміцнює захисні властивості епідермісу;
- Забезпечує необхідне живлення і зволоження;
- Забезпечує оздоровлювальний ефект вже після першого застосування;
- Містить екстракти солодки, центелли азіатської, розмарину, даурської троянди.

Країна виробник: Корея.

Як використовувати?

Після вмивання нанесіть маску на все обличчя, уникаючи області навколо очей. Акуратно змийте після 19 хвилин, максимум - 1 години.

Склад

Water, Butylene Glycol, Glycerin, Artemisia Princeps Leaf Powder, 1,2-Hexanediol, Cordyceps Sinensis Extract, Polygonum Cuspidatum Root Extract, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Methylpropanediol, Ligularia Fishceri Leaf Extract, Rosa Davurica Bud Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Glycyrrhiza Glabra (Licorice) Root Extract, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Extract, Centella Asiatica Extract, Glyceryl Polyacrylate, Sodium Polyacrylaste, Carbomer, Arginine, Phenoxyethanol, Allantoin, Dipotassium Glycyrrhizate, Panthenol, Xanthan Gum, Disodium EDTA. Склад засобу може змінюватись виробником. Перед використанням ознайомтесь з інформацією на упаковці.

Маска для обличчя з полином I&

Запитання, які можуть тебе цікавити:

Для якого типу шкіри підійде?

Ідеальна для жирної, комбінованої, проблемної та чутливої шкіри, схильної до запалень чи почервонінь.

Чи допоможе маска при акне та висипаннях?

Так, полин і солодка заспокоюють запалення, знімають почервоніння та підтримують процес загоєння.

Чи має маска аромат?

Так, вона має натуральний трав’яний аромат полину, який швидко вивітрюється.

Чи є ефект після першого використання?

Так, вже після першого нанесення шкіра виглядає більш рівною, свіжою та спокійною.

Customer Reviews

Be the first to write a review
0%
(0)
0%
(0)
0%
(0)
0%
(0)
0%
(0)